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3.3.6.1专用化学品及材料制造
2661* 化学试剂和助剂制造 高纯硼酸(核电) 2661028;
2662* 专项化学用品制造
多晶硅切削液 2662001;
聚羧酸减水剂 2662002;
表面活性剂(AEO) 2662003;
电子级阻燃材料及化学品 2662004;
2665* 医学生产用信息化学品制造 磁性载体(静电图像显影剂) 2665002;
3985* 电子专用材料制造
通用湿电子化学品(单剂) 3985047;
功能湿电子化学品(混剂) 3985048;
蚀刻液 3985049;
显影液 3985050;
剥离液 3985051;
稀释剂 3985052;
清洗剂 3985053;
金属保护液 3985171;
光阻去除剂 3985172;
钝化液 3985173;
TSV-深孔镀铜液 3985174;
电子大宗气体 3985054;
"电子特种气体(应用于半导体、新型显示、光伏太阳能电池、LED等电子器件生产的气体,包括三氟化氮、六氟化钨、笑气、氨气、一氧化碳、硅烷、砷烷、磷烷、锗烷、乙硅烷、乙炔、丙烯、三氯化硼、三氟化硼、二氧化硫、六氟丁二烯、四氟化碳、六氟化硫、六氟乙烷、八氟丙烷、氯气、氯化氢、氟化氢、四氟化硅、甲烷、羰基硫、乙硼烷、三氯化硼、稀有气体、前驱体等等;纯度≥3N。
具体标准如下:
氮气(N2)9N
氧气(O2)9N
氢气(H2)9N
氩气(Ar)9N
氦气(He)9N
砷烷(AsH3)5N5磷烷(PH3)5N7
三氟化硼(11BF3)3N四氟化锗(GeF4)3N硅烷(SiH4)6N
乙硅烷(Si2H6)4N8
二氯二氢硅(SiHCl2)3N
氨气(NH3)6N5一氧化二氮(N2O)5N5
锗烷(GeH4)5N乙硼烷(B2H6)5N磷烷(PH3)6N
一氧化氮(NO)3N
四氟化碳(CF4)4N
六氟乙烷(C2F6)5N
八氟丙烷(C3F8)5N
六氟丁二烯(C4F6)4N八氟环戊烯(C5F8)4N八氟环丁烷(C4F8)4N5三氟甲烷(CHF3)5N
二氟甲烷(CH2F2)5N氟甲烷(CH3F)4N
羰基硫(COS)3N5六氟化硫(SF6)5N氯气(Cl2)5N
溴化氢(HBr)5N
三氯化硼(BCl3)5N5
3.5%氩气/10ppm氙气/氖气/3.5%Ar/10ppmXe/Ne5N
0.95%氟气/3.5%氩气/氖气混合气(0.95%F2/3.5%Ar/Ne)5N
0.95%氟气/1.25%氪气/氖气混合气(0.95%F2/1.25%Kr/Ne)5N1.25%氪气/氖气混合气(1.25%Kr/Ne)5N
1.2%氦气/氮气混合气(1.2%He/N2)5N)
三氟化氮GB/T21287-2007纯度达到99.99%以上;六氟化钨GB/T32386-2015纯度达到99.9995%以上;高纯二氧化碳GB/T23938-2021纯度达到99.995%以上;四氟化硅Q/718J-CP028-2019纯度达到99.999%以上;氯化氢Q/718J-CP031-2020纯度达到99.995%以上。 3985055;"
光刻胶及配套试剂(集成电路) 3985056;
CMP材料中的研磨液及配套化学品、研磨垫材料(集成电路) 3985057;
电镀化学品及配套材料(集成电路制造用) 3985058;
液晶取向剂及配套化学品(新型显示用) 3985059;
高纯金属有机化合物(MO源)(>5N) 3985060;
电子级酚醛树脂 3985061;
电子级环氧树脂 3985062;
电子级氢氟酸 3985189;
电子级双氧水 3985190;
锂离子电池电解液 3985063;
2669* 其他专用化学产品制造
高固体分胶粘剂(仅包括复合软包装领域施工时工作液浓度不低于40%的胶粘剂。) 2669025;
无溶剂胶粘剂(仅包括复合软包装领域用无溶剂胶粘剂,芳香类异氰酸酯游离单体<1%。) 2669026;
当前共计 共0页 0条 家企业